一般産業分野向け加速器 実施例
お客様の要求仕様（抜粋）
・分散型加速器を使って、低コストのNTDシリコン生産設備が実現できないか？
・ドーピングの均一度が半導体素子の性能を決定するので、従来の原子炉を使った照射に比較して、もっとフラット な中性子束が得られるようにしてほしい
当社検討結果（抜粋）
●実現仕様
●外形
<<分散型加速器イメージ図>>基本設計ベースの外形図のため実際とは異なる部分があります。また、加速器本体の構造を判り易くするためカラフルに配色し、遮蔽等の設備は取り除いています。
《補足》今回は２ポート（２つの中性子源による照射）での仕様提示を行ったが、今後客先とともに中性子束分布
の評価を行い、必要があれば更なるポート数の増大を検討する。同様に、中性子源強度についても今後の
検討結果によっては、加速エネルギー、或いは加速電流等の仕様見直しを実施する。
プログラムに要した費用と期間
費用： 320 万円
期間： 3 ヶ月（導入プログラム実行に要する期間の目安で、製品の納期ではありません）